Русский инженер

Начало 👆👆👆

3) Излучение на волне 10-15 нм - ионизирующее. А это значит, что при взаимодействии с веществом оно выбивает электроны из атомных орбит и создает ионы. Выбитые электроны - тоже рассматриваются как излучение. Ионы со временем восстанавливают свой заряд и тоже излучают свет. Все это называется вторичное излучение, которое портит оптические свойства фотолитографа. Чем больше зеркал в оптической системе - тем больше вредного вторичного излучения. Конечно, его можно отсеять при грамотном расположении элементов оптической системы. Но вторичное излучение возникает даже при взаимодействии света с фоторезистом на кремниевой пластине во время экспонирования, засвечивая соседние области больше, чем нужно. Подбор фоторезистов для такого излучения - непростая задача для химиков.

Это только самые крупные обозначенные проблемы, стоящие на пути создания фотолитографа на жестком ультрафиолете. Неудивительно, что компании из США и Японии в свое время вышли из гонки, а голландская ASML затратила почти 20 лет на разработку, попутно объединив наработки многих западных коллективов. Одно только повторение этой технологии при многих известных решениях - само по себе подвиг инженеров, сравнимый с ядерным проектом.

Тем не менее, данный вызов принят нашими инженерами, о чем и упоминалось в новостях о прогрессе в данной разработке.

И пару нюансов. В комментариях многие упоминали что мол достаточно 60 нм для большинства задач, и зачем гнаться за таким уровнем. Разумеется, приоритетно насытить наше производство наиболее массовыми чипами. И тем не менее есть множество узких мест в технологиях, где требуется такой уровень топологии. И это не только телефоны ноутбуки. Нам необходима радиационно стойкая элементная база, нам нужны процессоры для ИИ, кровь из носу необходимо создать свою спутниковую систему связи, альтернативу старлинку, ведь потенциал этой технологии просто гигантский, и нам недопустимо отставать в ней.

Поэтому вызов по достижению точности в производстве микросхем, является не менее важным вызовов для нас, для нашей безопасности, чем Атомный проект 80 лет назад.

Русский Инженер -
✅ подписаться

4👍692💯189🔥96🤔31🙏21❤16😁6

www.group-telegram.com/us/rusengineer.com/6063

42K viewsDec 14, 2024 at 12:29

Начало 👆👆👆

3) Излучение на волне 10-15 нм - ионизирующее. А это значит, что при взаимодействии с веществом оно выбивает электроны из атомных орбит и создает ионы. Выбитые электроны - тоже рассматриваются как излучение. Ионы со временем восстанавливают свой заряд и тоже излучают свет. Все это называется вторичное излучение, которое портит оптические свойства фотолитографа. Чем больше зеркал в оптической системе - тем больше вредного вторичного излучения. Конечно, его можно отсеять при грамотном расположении элементов оптической системы. Но вторичное излучение возникает даже при взаимодействии света с фоторезистом на кремниевой пластине во время экспонирования, засвечивая соседние области больше, чем нужно. Подбор фоторезистов для такого излучения - непростая задача для химиков.

Это только самые крупные обозначенные проблемы, стоящие на пути создания фотолитографа на жестком ультрафиолете. Неудивительно, что компании из США и Японии в свое время вышли из гонки, а голландская ASML затратила почти 20 лет на разработку, попутно объединив наработки многих западных коллективов. Одно только повторение этой технологии при многих известных решениях - само по себе подвиг инженеров, сравнимый с ядерным проектом.

BY Русский инженер